Publikuar
Ky dokument jep një klasifikim të dislokimeve dhe defekteve të shkaktuara nga procesi, midis defekteve të ndryshme sipërfaqësore, që ndodhin në nënshtresat e nitridit të galiumit me një kristal (GaN) ose në filmat GaN me një kristal.
Është i zbatueshëm për dislokimet dhe defektet e shkaktuara nga procesi të ekspozuara në sipërfaqen e llojeve të mëposhtme të substrateve ose filmave GaN:
— substrati GaN me një kristal;
— Filmi GaN me një kristal i formuar nga rritja homoepitaksiale në një substrat GaN me një kristal;
— Filmi GaN me një kristal i formuar nga rritja heteroepitaksiale në një substrat oksid alumini me një kristal (Al2O3), karabit silikoni (SiC) ose silikon (Si).
Nuk zbatohet për defektet e ekspozuara në sipërfaqe nëse vlera absolute e këndit akut ndërmjet sipërfaqes normale dhe boshtit c të GaN është ≥ 8°.
PUBLISHED
SSH ISO 5618-1:2023
60.60
Standard published
24 korr 2024
Only informative sections of projects are publicly available. To view the full content, you will need to members of the committee. If you are a member, please log in to your account by clicking on the "Log in" button.